光刻膠涂布是光刻工藝中的關鍵步驟，其質量直接影響到后續曝光、顯影、蝕刻等工序的成敗，最終關系到芯片的性能和良率。微小甚至肉眼難以察覺的涂布缺陷都可能導致電路短路、斷路或性能偏差。因此，在涂布后及時、準確地檢測出缺陷至關重要。

康耐德智能的晶圓光刻膠涂布缺陷CCD視覺檢測系統，主要用于檢測晶圓光刻膠涂布過程中可能出現的缺陷，例如涂布不均勻、氣泡、雜質、劃痕、膠厚不一致等問題。
    高精度CCD視覺傳感器：系統很可能采用高分辨率、高靈敏度的CCD工業相機作為核心成像部件，能夠捕捉光刻膠表面的細微變化。

    多角度照明技術：為了有效抑制高反射表面的眩光干擾，并突出不同類型的缺陷（如凹凸不平、劃痕、異物），系統可能會采用多角度、多光譜或偏振光照明技術。

    先進的圖像處理算法：系統會配備機器視覺圖像處理軟件，通過分析圖像信號的像素分布、亮度、顏色等信息，轉變成數字化信號，并運用各種算法來抽取目標的特征（如面積、數量、位置、長度），最終根據預設條件輸出結果（合格/不合格、缺陷類型等）。

    缺陷識別與分類：系統應能夠快速識別并分類光刻膠涂布中的多種缺陷，例如：

        ·涂布不均勻（厚度不均、桔皮現象）

       ·點狀缺陷（氣泡、顆粒污染、雜質）

        ·線狀缺陷（劃痕）

        ·區域缺陷（殘留、缺失）

    自動化與集成性：系統很可能設計為自動化檢測單元，能夠集成到晶圓生產線中，實現在線、實時檢測，及時發現并剔除不良品，提高生產效率和產品質量68。

    數據管理與分析：系統可能具備實時瑕疵信息顯示、歷史數據記錄、統計報表生成等功能47，方便追溯生產批次、分析工藝問題，為優化生產參數提供依據。

康耐德智能的晶圓光刻膠涂布缺陷CCD視覺檢測系統，核心是利用高精度CCD相機捕捉圖像，結合先進的照明和圖像處理算法，自動、快速、準確地檢測和分類涂布過程中的各類缺陷，從而幫助半導體制造商提升產品質量和生產效率。

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